- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
精品文档
第五章习题
在一个 n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为 1013cm-3, 空穴的寿命为 100us。计算空穴的复合率。
已知:
p 1013 / cm 3 ,
100
s
求: U
?
解:根据
p
U
得: U
p1013
17
3
s
100 10
6
10 / cm
2. 用强光照射 n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为 , 空穴寿命为 。(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程;
(2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
解:均匀吸收,无浓度 梯度,无飘移。
d p
p
g L
dt
t
方程的通解: p(t ) Ae g L
(2)达到稳定状态时, d p 0
dt
p
g L 0.
p g
3. 有一块 n 型硅样品,寿命是 1us,无光照时电阻率是 10
cm。今用光照射该样品,光被半导体均匀
的吸收,电子 - 空穴对的产生率是
22-3
s-1
, 试计算光照下样品的电阻率, 并求电导中少数在流子的贡
10 cm
献占多大比例?
光照达到稳定态后 .
p
gL
0
p
n
g
10 22
10 6
1016 cm 3
光照前 :
0
1
10
cm
n0 q
p0 q
n
p
光照后 :
np n
pq
n0 q n
p0 q
pnq npq
p
p
0.10
1016
1.6
10 19
1350
10 16
1.6
10 19
500
0.1
2.96
3.06s/ cm
1
0.32 cm.
少数载流子对电导的贡 献
p0 .所以少子对电导的贡献 , 主要是 p的贡献 .
p9u p 1016
1.6 10 19
500
0.8
26%
1
3.06
3.06
欢迎下载
。
精品文档
一块半导体材料的寿命 =10us,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止 20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?
t
p(t) p( 0)e
20
p(20) e 10 13.5%
p(0)
光照停止 20 s后,减为原来的 13.5%。
5. n 型硅中,掺杂浓度
16
-3
光注入的非平衡载流子浓度
14-3
。计算无光照和有光照的
ND=10
cm ,
n= p=10 cm
电导率。
设T
300K , ni
1.5
1010 cm 3 .
n
p 1014 / cm3
则n0
1016 cm 3 , p0
2.25
104
/ cm3
n n0
n, p
p0
p
无光照 : 0
n0q
n
p0 qu p n0 q
n
1016
1.6 10 19
1350
2.16s / cm
有光照 :
nq n pq p
n0 q n
p0 q
p
nq(
n
p )
2.16
1014
1.6
10 19
(1350
500)
2.16
0.0296
2.19 s/ cm
(注:掺杂 1016 cm 13的半导体中电子、
空穴的迁移率近似等于 本征
半导体的迁移率)
画出 p 型半导体在光照(小注入)前后的能带图,标出原来的的费米能级和光照时的准费米能级。
。
2 欢迎下载
精品文档
Ec Ec
Ei
EFn
Ei
EF
Ev Ev
EFp
光照前 光照后
15
-3
的 n 型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子
14-3
。试计算这种情况
7. 掺施主浓度 ND=10
cm
n= p=10 cm
下的准费米能级位置,并和原来的费米能级作比较。
强电离情况,载流子浓 度
E
E
k
Tln
n
15
14
Fn
i
n
n0
n
10
10
0
ni
p
1.1
1015 / cm3
1014
E Fn
Ei
k 0Tln
1.1
1015
0.291eV
2
N D
E
E
k
Tln P
(1.5
10
2
14
14
FP
i
0
10
)
3
Pi
10
10
/ cm
15
10
1014
n
ni e EFnEi
E
FP
E
i
k
0
Tln
0.229eV
1010
ko T
1.5
p
ni e Ei
EFP
平衡时E
F
E
i
k
o
Tln N D
k0T
n
i
k 0Tln
1014
0.289eV
1.5
1010
E nF EF 0.0025eV
F EPF 0.0517eV
在一块 p 型半导体中,有一种复合 - 产生中心,小注入时,被这些中心俘获的电子发射回导带的过
程和它与空穴复合的过程具有相同的概率。试求这种复合 - 产生中心的能级位置,并说明它能否成为有效的复合中心?
。
3 欢迎下载
精品文档
解:根据复合中心的间 接复合理论:
复合中心 N t .被电子占据 nt ,向导带发射电子
sn nt r nn1nt
文档评论(0)