纳米压印技术---素质教育.ppt

纳米压印技术(nanoimprint) 郑州大学物理工程学院 段智勇 * 主要内容 为什么要研究纳米压印技术. 纳米压印技术实现的方式. 纳米压印技术亟待解决的问题. 我的课题研究及进展. 一.为什么研究纳米压印技术 图形转移目前都采用光学方法实现,即传统的光刻. 瑞利公式的限制. 光学光刻的发展: 移相掩模; 光学临近效应校正; 浸润式光学镜头; 已经可以实现22nm节点图形转移. 一.为什么研究纳米压印技术 光学光刻走向没落，提出下一代图形转移技术(NGL): 电子束直写; X射线曝光; 极深紫外光源曝光; 纳米压印技术; ML2; EUV IMM. 国际半导体蓝图 自2003年开始直到2013年, 将纳米压印技术作为半导体加工所需图形转移技术的备选之一. /Links/2011ITRS/Home2011.htm 国际半导体蓝图 2013年版： Nanoimprint is a potential solution that involves coating a thin pattern of liquid on a wafer and using a mask with high resolution relief