纳米压印光刻新型模具的设计与性能分析.docVIP

毕业设计（论文）说明书 PAGE PAGE 64 摘要 随着集成电路特征尺寸的进一步减小，现有光学光刻技术的制造难度和成本急速上升，因此制造成本相对较低的纳米压印压印光刻技术越来越受到关注。本文以压印光刻模具为研究目标，针对压印光刻工艺中的模具设计和性能等问题进行了研究。 为适应纳米压印光刻技术的发展，我们引入了一种新的纳米压印光刻工艺，即由支撑层、弹性层和结构层组成的三层复合结构透明的晶圆级软模具，压印过程采用从模具中心位置向外侧方向逐渐均匀性微接触压印的方法，基于新的模具结构并采用气体辅助压印力和毛细力共同作用下，实现压印力均匀分布、消除气泡缺陷，并在小的压印力下实现大面积图形的复