gan-mv设备m源注入摩尔流量的精确控制.pdfVIP

电子工业专用设备 Equipment for Electronic Products Manufacturing 材料制造工艺与设备 GaN-MOCVD设备MO源注入摩尔 流量的精确控制 刘 欣，魏 唯，陈特超 中国电子科技集团公司第四十八研究所，湖南 长沙 ( 410111) 摘 要 ： 分析了 GaN-MOCVD 设备中 MO 源注入摩尔流量控制的基本原理 ，给出了决定 MO 源 注入摩尔流量的三个重要条件 ，然后针对于 中 种常用的金属有机源 ，根据工艺 GaN-MOCVD 5 生长的需要 ，分别给出了 MO 源注入摩尔流量精确控制的解决方案 。 关键词 ： 半导体设备 ；GaN-金属有机化学气相沉积 ；金属有机化合物源 ；注入摩尔流量 中图分类号 ： TN305.3 文献标识码 ： B