薄膜材料与技术概述.pptVIP

薄膜厚度及沉积率表征方法的主要分类： 5.1.1 气相原子密度法 一、测量原理 (如右图所示，与电离真空计类似)： 1、气相原子进入探头  灯丝热电子轰击  电离；2、电场作用下：电离出的电子→阳极、离子→阴极 (收集极)；3、收集极电流 Ii 和阳极电流 Ie 满足：Ii  nIe 沉积速率 ( ) 满足： 膜厚 D 满足： 此处：n — 气相粒子密度；  — 膜材料密度； a — 常数。 二、特点： 1、膜厚测量的相对误差 ≈ 10%；2、测量结果和蒸发源温度及残余气体气压有关 (分别影响 a 和 Ii )。 5 薄膜表征 5.1 薄膜的厚度/沉积速率 1、测量原理：调整线圈电流，使薄膜增重引起的重力力矩 和线圈所产生磁场与吸铁间的磁场力达到平衡， 即可换算出薄膜质量，而薄膜厚度满足： 2、特点： 灵敏度很高 ( 0.01g)，可测单层原子膜厚。 5.1.3 石英晶体振荡法 1、测量原理：基于石英晶体薄片的固有振荡频率随其质量变化 而改变的物理现象，石英晶体的固有频率满足： 式中：v — 厚度方向弹性波波速；Dq — 石英晶体的厚度。 当薄膜沉积使其厚度发生微小变化 Dq 时，固有频率的变化 f 满足： 式中：Df — 薄膜的厚度； f — 薄膜材料的密度； A — 石英晶片的面积； 0 — 石英晶体的密度。 5 薄膜表征 5.1 薄膜厚度/沉积速率 5.1.2 微平衡称重法 微平衡称重法的测量原理示意图 石英晶体振荡法的测量原理示意图 1、测量原理：  由 (5-4)式可知：沉积过程中随着薄膜厚度的增加，石英晶片 的固有频率也在不断变化，测得其故有频率的变化 f，即可 由式 (5-5) 实时测得薄膜厚度 Df： 2、特点： 1）测量的灵敏度与石英晶体薄片的厚度有关，越薄越灵敏！ 由式 (5-3) 可知：Dq  f0 由式 (5-5) 可知：f0  Df 的测量灵敏度！ ■ 如固有频率 f0 = 6 MHz时，若频率变化的测量精度为 1 Hz，则可测得 1.2×10-8 g 的质量变化！ 此时假设基片面积为 1 cm2，沉积材料为Al，则厚度灵敏度相当于 0.05 nm ！ 2）应用广泛、主要用于实时测量沉积率  实现镀膜过程自动控制！ 3）环境温度变化会造成石英晶体固有频率发生变化  要求恒温环境  需要冷却系统！ 4）式 (5-5) 只是近似成立，且薄膜的有效面积不完全等于石英片面积  测量结果需要标定和校正！ 5 薄膜表征 5.1 薄膜厚度/沉积速率 5.1.3 石英晶体振荡法 石英晶体振荡法的测量原理示意图 1、光的干涉条件 (不考虑半波损失)： 1）什么是光的干涉：指满足一定条件的两列相干光波相遇叠加，在叠加 区域某些点的光振动始终加强、某些点始终减弱， 即干涉区域内光强产生稳定空间分布的现象。  光的干涉现象是光学干涉法测量薄膜厚度的基础！ 2）相干光： 概念：频率、振动方向相同，且光程差恒定的两束光；  获得：把同一光源发出的光束分为两束，再使之相遇！ 3）光程差：设薄膜的厚度和折射率分别是 Df 和 nf，入射单色光波长为 ， 空气的折射率 n0≈1，则 P 点处反射光ADP与折-反射光CEP 间的光程差  满足: 式中： — 折射角，满足： 4）干涉条件： 干涉极大条件 ——  是  的整数倍，即： = N；  干涉极小条件 ——  = (N+1/2) ！ 可见：利用光的干涉实现对薄膜厚度的测量，需要设计出对光强空间 分布变化的具体测量方法！ 5 薄膜表征 5.1 薄膜厚度/沉积速率 5.1.4 光学干涉法 光的干涉现象及其实现薄膜厚度测量的原理 2、透明薄膜的等倾干涉测量： 1）测量原理：基片不透明且具有一定反射率时，光的干涉条件为：