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ltps 低温多晶硅技术的原理解析
一、 LTPS 简介
低温多晶硅（ Low Temperature Poly-silicon ；LTPS ，以下以 LTPS 代
称）是平板显示器领域中的又一新技术。继非晶硅（ Amorphous-Silicon ，以
下以 a-Si 代称）之后的下一代技术。
Polysilicon （多晶硅） 是一种约为 0.1 至数个 um 大小、以硅为基
底的材料，由许多硅粒子组合而成。在半导体制造产业中，多晶硅通常经由
LPCVD （Low Pressure Chemical Vapor DeposiTIon ） 处理后， 再以高于
900C 的退火程序， 此方法即为 SPC （Solid Phase CrystallizaTIon ） 。然而
此种方法却不适合用于平面显示器制造产业，因为玻璃的最高承受温度只有
650 ℃。因此， LTPS 技术即是特别应用在平面显示器的制造上。
传统的非晶硅材料（ a-Si ）的电子迁移率只有 0.5 cm2/V.S ，而低温多
晶硅材料（ LTPS ）的电子迁移率可达 50 ～200 cm2/V.S ，因此与传统的非晶
硅薄膜电晶体液晶显示器（ a-Si TFT-LCD ）相比，低温多晶硅 TFT-LCD 具有
更高解析度、反应速度快、亮度高（开口率 apertureraTIo 高）等优点，同时
可以将周边驱动电路同时制作在玻璃基板上，达到在玻璃上集成系统
（SOG ）的目标，所以能够节省空间和成本此外， LTPS 技术又是发展主动式
有机电致发光（ AM-OLED ）的技术平台，因此 LTPS 技术的发展受到了广泛
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