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第17卷第7期 光学精密工程 VoL17 No．7 andPrecision 2009年7月 Optics Engineering Jul．2009 文章编号1004—924X(2009)07—1507—06 几种氟化物薄膜材料的光学特性 薛春荣1’2…，易 葵1，邵建达1，范正修 (1．中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800；2．常熟理工学院江苏新型功能 材料实验室，江苏常熟215500；3．中国科技大学国家同步辐射实验室，安徽合肥230019) 摘要：为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(uV)一真空紫外(VUV)波段的光学常数，研究了真空紫外领域常用的基底材 料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGSl)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的 Na。AIFs；在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300 nm的透射光谱曲线，