光刻胶市场规模、产值份额及竞争格局分析.pdf

光刻胶：受益晶圆、面板产能持续东移，国产替代东风已至 光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机化合物，其组成部分包括：光引 发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。在 图形转移介质经过曝光、显影、蚀刻等系列环节后，光刻胶可将掩膜版上的图形 转移至加工基底上。如下图所示为光刻胶