氧化锆陶瓷及其制备方法和应用发明专利.pdfVIP

氧化锆陶瓷及其制备方法和应用发明专利.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112537957 A (43)申请公布日 2021.03.23 (21)申请号 201910900414.2 (22)申请日 2019.09.23 (71)申请人 比亚迪股份有限公司 地址 518118 广东省深圳市坪山新区比亚 迪路3009号 (72)发明人 陈戈 林信平 唐威  (74)专利代理机构 北京润平知识产权代理有限 公司 11283 代理人 刘依云 乔雪微 (51)Int.Cl. C04B 35/48(2006.01) C04B 35/622(2006.01) H04M 1/18(2006.01) 权利要求书1页 说明书11页 (54)发明名称 氧化锆陶瓷及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明涉及氧化锆陶瓷领域,公开了一种氧 化锆陶瓷及其制备方法和应用。所述氧化锆陶瓷 以元素计包含:Y、Zr、Zn、Al、Si、Mg,以及Nb和/或 Ta,且所述氧化锆陶瓷的物相包含:四方相氧化 锆、ZrSiO 和Zn Mg Al O ,其中,0≤x≤1;所述 4 x 1-x 2 4 四方相氧化锆为氧化钇、氧化铌和/或氧化钽与 氧化锆形成的固溶体。该氧化锆陶瓷可以同时具 3 有介电常数小于28,密度低于5.5g/cm ,减薄速 度大于40丝/h,落锤高度大于24cm的特点,综合 性能好于现有技术的陶瓷。 A 7 5 9 7 3 5 2 1 1 N C CN 112537957 A 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种氧化锆陶瓷,所述氧化锆陶瓷以元素计包含:Y、Zr、Zn、Al、Si、Mg,以及Nb和/或 Ta;且所述氧化锆陶瓷的物相包含:四方相氧化锆、ZrSiO 和Zn Mg Al O ,其中,0≤x≤1; 4 x 1-x 2 4 所述四方相氧化锆为氧化钇、氧化铌和/或氧化钽与氧化锆形成的固溶体。 2.根据权利要求1所述的陶瓷,其中,所述氧化锆陶瓷以元素计包含:48-70wt%的Zr、 3-17wt%的Zn+Al+Mg+Si、1.5-5.5wt%的Y、0.7-2.8wt%的Nb和/或Ta; 优选所述氧化锆陶瓷包含:50-65wt%的Zr、5-15wt%的Zn+Al+Mg+Si、2-4.5wt%的Y、 1.5-2.5wt%的Nb和/或Ta。 3.根据权利要求1或2所述的陶瓷,其中,所述氧化锆陶瓷的物相包含:46.9-84.7wt% 的四方相氧化锆、7.8-31.7wt%的ZrSiO 、5.9-17.8wt%的ZnMg Al O ; 4 x 1-x 2 4 优选包含:54.9-79.8wt%的四方相氧化锆、9.8-27.88wt%的ZrSiO 、7.8-14.9wt%的 4 ZnMg Al O 。 x 1-x 2 4 4.根据权利要求1-3中任意一项所述的陶瓷,其中,所述氧化锆陶瓷的介电常数为20- 3 28,所述氧化锆陶瓷的密度不大于5.65g/cm ,所述氧化

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