NIKLADOperatingManual(20080908修订版)要点分析和总结.pdfVIP

NIKLADOperatingManual(20080908修订版)要点分析和总结.pdf

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Hong Kong Lt d. Niklad 化学镍操作手册 1. Hong Kong Lt d. Niklad catalogue 目录 I. Formulation 简述 3 II. Deposit Properties 镀层特性 7 III. Equipment Requirements 设备要求 9 IV. Solution Preparation 溶液配制 10 V. Operating Conditions 操作条件 11 VI. Function Description 功能描述 12 VII. Solution Maintenance 溶液维护 16 VIII. Analytical Procedures 分析方法 20 IX. Operating instruction 操作指南 22 2 . Hong Kong Lt d. Niklad I. Formulation 简述 1. VAND-ALOY 4100 VAND-ALOY 4100 是一种稳定的、易操作的无电解镍溶液,该制程用作功能性无电解 镍合金的沈积,该合金包含质量比 10-12% 的磷。因为它独特的配方和调节剂,该溶液能生 产出高耐腐蚀的沉积层。 VAND-ALOY 4100 制程能够抵抗大多数杂质,它的目的在于提供高沉积速率和较长的 槽液寿命。它特别适用于那些高产率和有质量要求的简易生产。这个系统可以通过使用 Vand-Aloy 4100A ,4100B 和 4100C-NA 达到完全无氨操作。 表 1 VAND-ALOY 4100 的特性与优点 特性 优点 优良的耐腐蚀性能 选择合适的无氨化物操作系统 产品经验证有高产率和电镀速率 符合 MIL-C-26074 ,AMS 2404 ,ASTM B-656 , 独特配方提供较长的操作寿命,并有优良的稳定性 ASTM B-733 和 ISO4227 指定要求 2. NIKLAD ELV 811 NIKLAD ELV 811 高磷无电镍系统是最新一代的技术,限制了用做稳定剂的铅的使用。 因为无铅,该系统符合机动车的 ELV 规范,也符合 ROHS 规范的 WEEE 限令。 该制程是一个独特的化学镍产品,可提供卓越的镀层特性,并提供简单的操作和控制。 NIKLAD ELV 811 的 Ni-P 镀层含磷量是 10-12% 。像传统的高磷系统一样,可产生良好的镀 层

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