2.4 半导体; 元素半导体介于金属和非金属之间,现在90%的半导体器件的原材料是Si,未来化合物半导体将会有很大发展;2.4.1 本征半导体;硅的晶体结构
属于面心立方结构;满 带;空带;2、半导体载流子数量的计算;电子总数;同样,可计算空穴的数量;2.4.2 杂质半导体; n 型半导体 ;二、P型半导体(Positive); P型半导体;三、非本征半导体的电子和空穴数;于是;(2)较高温度;2.4.3 导电性和载流子迁移率;则电流密度;3、电阻率和温度的关系;半导体的其他重要技术参数;1、P-N结的形成;内建场大到一定程度,不再有净电荷的流动,达到了新的平衡。;P-N结处存在电势差Uo;空带;阻挡层势垒被削弱、变窄,有利于空穴向N区运动,电子向P区运动, 形成正向电流(mA级)。;p型;当外电场很强,反向电压超过某一数值后,反向电流会急剧增大----反向击穿。;2、晶体管;
;1958年8月16日发明了第一个具有使用功能的集成电路;集成电路的编织(Fabrication )
;大规模集成电路(VLIC);CPU的散热片;2.5 超导电性;表征超导体性质的三个指标;三、BCS理论;超导应用;2.7 电性能测量及其应用
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