[实用参考]俄罗斯过套管电阻率测井技术与应用研究.pptVIP

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 2.影响因素校正 水泥环校正 K因子校正 实例3：茨17-141 3. 处理结果 实例3：茨17-141 处理成果 海193-29井1420-1450m段解释成果图 实例4：海193-29井 奈1-72-36井1480-1510m段解释成果图 实例5：奈1-72-36井 处理成果 锦2-7-304井1380-1450m段解释成果图 实例6：锦2-7-304井 处理成果 海222-31井1550-1660m段解释成果图 实例7：锦2-7-304井 处理成果 交64-42井1780-1860m段解释成果图 实例8：交64-42井 处理成果 实际资料处理小结 通过实际资料处理，得出解释结论，为下一步堵水调剖提供的依据。 汇 报 提 纲 一、过套管电阻率技术现状 二、ECOS理论模拟与校正图版 三、ECOS数据预处理与软件开发 四、ECOS解释方法与处理实例 五、结论与认识 1）水泥环对视电阻率的影响一般需要进行校正的， 地层电阻率大于水泥环电阻率情况下，水泥环对视电阻的影响不超过30%，地层电阻率小于水泥环电阻率情况下，水泥环对视电阻的影响不超过60%。 2）套管异常的影响主要集中在金属套管的间断处附近，变化较大，实际中如果仪器给出的套管的视电阻率变化不大时，不需要进行校正。如果变化大时，采用低通滤波的方式进行影响因素的校正。 3）射孔的存在对过套管电阻率的影响不大，一般在3%范围内，可以不考虑其影响。但由于射孔的存在造成金属套管的腐蚀，采用低通滤波的方法消除其影响。 五、 主要结论和认识 4）俄罗斯过套管电阻率的分辨率为1米，大于1.2米的地层能够识别。目的层的厚度在0.5-1米时需要使用校正图版进行校正。大于1.2米时无需校正，小于0.5米校正没有实际意义。 5）接箍的单位长度的纵向电阻比相邻的金属套管的要大，它的影响范围一般为1m左右，使得接箍对应的位置视电阻率不同程度地增加，而相邻套管处的视电阻率不同程度地降低，给出了校正图版和低通滤波的方式进行处理。 6）研究了K因子的变化规律，俄罗斯过套管电阻率的K因子是金属套管的单位纵向电导，套管的外径和地层的电阻率的函数。通过在大段非渗透层或泥岩层和裸眼井电阻率曲线重合，并结合K因子校正图版，得到随地层条件和深度变化的K因子，提高了K因子校正精度。 五、结论和认识 异常点存在的分析 Iupper: 上发射电流的强度，单位为微安 Ilower: 下发射电流的强度，单位为微安 U1: 上发射电极发射电流时，电极N点的电势 U2: 下发射电极发射电流时，电极N点的电势 Du(NM1)1: 上发射电极的发射电流,Un-UM1,该值为负 Du(NM2)1: 上发射电极的发射电流,Un-UM2,该值为正 Du1: 上发射电极的发射电流,Um2-Um1=du(Nm1)1-du(NM2)1, 该值为负 D2u1: 上发射电极的发射电流,d2u1=-(du(nm1)1+du(nm2)1), 该值可正可负 Du(NM1)2: 下发射电极的发射电流,un-uM1,该值为正 Du(NM2)2: 下发射电极的发射电流,un-UM2,该值为负 Du2: 下发射电极的发射电流,Um2-Um1=du(Nm1)2-du(NM2)2, 该值为正 D2u2: 下发射电极的发射电流,d2u1=-(du(nm1)2+du(nm2)2), 该值可正可负 8、其他相关问题的探讨（ECOS原始数据分析 ） 1）同一测量点上，当同一个发射电极（上发射电极或者下发射电极）发射的电流增大时，对应的一阶压差的绝对值要增大。 2）同一测量点上，同一发射电流较大时，液压较大时，测井的温度稳定时，认为测量的效果较好。 * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 5、金属套管接箍的影响及校正方法研究 接箍校正图版（接箍长度为16cm） 5、金属套管接箍的影响及校正方法研究 影响随接箍长度变化 6、射孔的影响及校正方法研究 地层电阻率为50欧姆.米时射孔对视电阻率的影响 6、射孔的影响及校正方法研究 地层电阻率为20欧姆.米时射孔对视电阻率的影响 6、射孔的影响及校正方法研究 地层电阻率为50欧姆.米时射孔对视电阻率的影响 6、射孔的影响及校正方法研究 地层电阻率为20欧姆.米时射孔对视电阻率的影响 6、射孔的影响及校正方法研究 不同孔径的射孔对视电阻率的影响 (左：7in 右:5in) 6、射孔的影响及校正方法研究 上张左图和上张右图为套管尺寸为