微电子集成电路.pptxVIP

集成电路基础工艺与制造工艺;集成电路设计与制造的主要流程框架;集成电路的设计过程： 设计创意 + 仿真验证;;集成电路芯片的显微照片;集成电路的内部单元(俯视图);N沟道MOS晶体管;CMOS集成电路(互补型MOS集成电路)：目前应用最为广泛的一种集成电路，约占集成电路总数的95%以上。;;第3章 集成电路工艺简介;图形转换：光刻;正胶：曝光后可溶 负胶：曝光后不可溶;第4章 CMOS集成电路加工过程简介 一、硅片制备 二、前部工序 ;掩膜1： P阱光刻 具体步骤如下： 1．生长二氧化硅： ;2．P阱光刻： 涂胶、掩膜对准、曝光、显影、刻蚀 3．去胶 4．掺杂：掺入B元素 ;掩膜2 ： 光刻有源区 淀积氮化硅 光刻有源区 场区氧化 去除有源区氮化硅及二氧化硅 生长栅氧 淀积多晶硅 ;;掩膜3 ：光刻多晶硅 掩膜4 ：P+区光刻 1、P+区光刻 2、离子注入B+，栅区有多晶硅做掩蔽，称为硅栅自对准工艺。 3、去胶; 掩膜5 ： N+区光刻 1、N+区光刻 2、离子注入P+ 3、去胶; 掩膜6 ：光刻接触孔 ;掩膜7 ：光刻铝引线 1、淀积铝 2、光刻铝 ;掩膜8 ：刻钝化孔 中测打点;三、后部封装 （在另外厂房） （1）背面减薄 （2）切片 （3）粘片 （4）压焊：金丝球焊 （5）切筋 （6）整形 （7）所封 （8）沾锡：保证管脚的电学接触 （9）老化 （10）成测 （11）打印、包装; ;9、 人的价值，在招收诱惑的一瞬间被决定。6月-216月-21Monday, June 28, 2021 10、低头要有勇气，抬头要有低气。05:21:1305:21:1305:216/28/2021 5:21:13 AM 11、人总是珍惜为得到。6月-2105:21:1305:21Jun-2128-Jun-21 12、人乱于心，不宽余请。05:21:1305:21:1305:21Monday, June 28, 2021 13、生气是拿别人做错的事来惩罚自己。6月-216月-2105:21:1305:21:13June 28, 2021 14、抱最大的希望，作最大的努力。28 六月 20215:21:13 上午05:21:136月-21 15、一个人炫耀什么，说明他内心缺少什么。。六月 215:21 上午6月-2105:21June 28, 2021 16、业余生活要有意义，不要越轨。2021/6/28 5:21:1305:21:1328 June 2021 17、一个人即使已登上顶峰，也仍要自强不息。5:21:13 上午5:21 上午05:21:136月-21