大宗特殊气体供应系统及其输送管道的制作方法.docxVIP

PAGE PAGE 1 大宗特殊气体供应系统及其输送管道的制作方法 1.本有用新型涉及大宗特别气体供给技术领域，详细涉及一种大宗特别气体供给系统及其输送管道。背景技术：2.随着半导体产技术的不断更新换代，各芯片创造工厂和液晶面板厂的产能也逐渐增大，同时各工厂对特别气体的需求量亦随之增强。依据特别气体的平安存储管理规定，存储量较大的特别气体需在生产厂房之外单独建立特别气体站，且特别气体站与生产厂房及人员密集区应保持一定的平安距离。特别气体因其气体性质的特别，均采纳低压供给(供给压力通常为4～5kg/cm2)，因为输送距离较长，当生产设备用法特别气体时，流体与输送管道的摩擦及用法量的变幻经常导致供给压力的不稳定。技术实现要素：3.1、有用新型要解决的技术问题4.针对流体与输送管道的摩擦及用法量的变幻经常导致供给压力的不稳定技术问题，本有用新型提供了一种大宗特别气体供给系统及其输送管道，它通过缓冲管道提高供给管道的流体补充能力，保证供给管道压力的稳定。5.2、技术计划6.为解决上述问题，本有用新型提供的技术计划为：一种大宗特别气体输送管道，包括供给管道和缓冲管道，所述供给管道一端用于与气体供给设备衔接，供给管道的另一端用于衔接气体分配设备，所述缓冲管道位于供给管道的两端之间，且缓冲管道逼近供给管道用于衔接气体分配设备的一端，所述缓冲管道的