电弧离子镀膜装置及镀膜方法与流程.docxVIP

PAGE PAGE 1 电弧离子镀膜装置及镀膜方法与流程 1.本藏匿涉及真空镀膜技术领域，特殊涉及一种电弧离子镀膜装置及镀膜办法。背景技术：2.脉冲弧电源采纳脉冲式、间断式大电流放电(≥2000a)，阴极靶材表面电弧放电产生的热量会在放电间隙被冷却水充分带走，因此能够避开阴极局部极小熔化产生的液滴影响薄膜质量，被广泛应用于镀制金属薄膜、合金薄膜及碳基薄膜。3.现有脉冲弧电源的阴极多为平面圆形靶材，靶材的尺寸比较小现有脉冲弧电源的阴极多为平面圆形靶材，靶材的尺寸比较小更换周期短，且在一个位置固定设置引弧器，只能在平面圆形靶材上产生一个有限区域的真空电弧，镀膜有效范围小且有效范围内所制备的薄膜厚度高度不匀称。上述问题限制了此种镀膜办法在工业领域大批量、大范围的推广和应用。技术实现要素：4.本藏匿提供了一种电弧离子镀膜装置及镀膜办法，能够有效扩大镀膜范围。5.按照本藏匿的一方面，提供了一种电弧离子镀膜装置，包括：6.真空室，其腔体内为真空环境；7.电弧产生部件，设在真空室内，包括阴极靶、阳极和引弧器，阴极靶呈柱状且用于释放等离子体，引弧器设在阴极靶和阳极之间，用于产生带电粒子以引导阴极靶的侧面与阳极之间产生电弧对工件镀膜；8.支撑架，设在真空室内，支撑架设在阳极远离阴极靶的一侧，用于放置工件；和9.供电部件，包括弧电源和第一蓄能器，