硅和锗的化闪学制备.pptVIP

二氧化硅（SiO2）;常温下, 不与水反应 只与HF,强碱反应 ;四. 硅烷 (SiH4) 和 锗烷(GeH4);SiH4+2KMnO4 →2MnO2↓+K2SiO3+H2O+H2↑;1.2 高纯硅的制备;原料 石英砂（SiO2), 碳（来自焦炭、煤、木屑） 反应原理 SiO2+3C=SiC+2CO(1600~1800OC) 2SiC+SiO2=3Si+2CO 反应温度下硅是气相，然后凝固成固相,纯度~97% 粗硅的用途： 生产有机硅（硅橡胶、硅树脂、硅油等） 制取高纯度的半导体材料 配制有特殊用途的合金等 ;1.2.1 三氯氢硅氢还原法;2.SiHCL3的提纯 方法: 络合物形成法,固体吸附法,部分水解法,精馏法 精馏原理 根据组份间据有不同的沸点（挥发性的差异）的特性将组份分离,从而达到提纯的目的 一次精馏得到的分离液较少，需多次分馏。精馏塔是可以连续多次精馏的特殊装置;3.SiHCL3氢还原 SiHCL3+H2 →Si+3HCL (SiHCL3:H2=1: 10~20mol) 4SiHCL3=Si+3SiCL4+2H2 SiCL4+ 2H2 =Si +4HCL 反应结束,制得高纯多晶硅,它的纯度用残留的B,P含量表示,称为基硼量,基磷量.(为什么?) ;1.2.2 硅烷热分解法;2.硅烷的提纯 低温精馏（硅烷沸点太低，精馏要有