tftlcd面板玻璃减薄工艺流程及不良简介.pptxVIP

Contents 2 第1页/共25页 第一页，编辑于星期日：点 十五分。 减薄的作用 1.减少占有的空间 2.使Glass达到一定的柔性 3 第2页/共25页 第二页，编辑于星期日：点 十五分。 减薄工艺简介 4 第3页/共25页 第三页，编辑于星期日：点 十五分。 封胶 一般在这之前还会进行检查。 涂胶后静置1min。 清除多的UV胶。 UV固化后检查 5 第4页/共25页 第四页，编辑于星期日：点 十五分。 封胶 UV固化 UV灯 涂胶后检查 涂胶 加盖遮光垫 6 第5页/共25页 第五页，编辑于星期日：点 十五分。 原理及方式 单片直立喷洒 瀑布流 多片直立浸泡 原理 1 2 3 4 减薄原理及方式 6HF+SiO2-H2SiF6+2H2O 液体+固体（玻璃）-液体 7 第6页/共25页 第六页，编辑于星期日：点 十五分。 单片直立喷洒 瀑布流 优点： 1.可以满足两面不同蚀刻要求。多片缺点： 1.蚀刻表面易产生凹点。 优点： 1.表面最光滑，甚至可以不用抛光 三种方式优缺点 8 第7页/共25页 第七页，编辑于星期日：点 十五分。 Text in here 蚀刻 清洗 减薄流程 9 第8页/共25页 第八页，编辑于星期日：点 十五分。 10 减薄设备 其余组件： 供酸装置 HF酸浓度计 温度控制器 洗气装置 第9页/共25页 第九页，编辑于星期日：点 十五分。 11 减薄工艺参数 1.反应时间与玻璃质量损失的关系 图1.反应时间与玻璃质量损失之间的关系 第10页/共25页 第十页，编辑于星期日：点 十五分。 12 减薄工艺参数 2.反应速率与反应温度的关系 图2.玻璃在HF酸中反应速率与反应温度之间的关系 第11页/共25页 第十一页，编辑于星期日：点 十五分。 13 减薄工艺参数 3.反应速率与HF酸浓度的关系 图3.玻璃在HF酸中反应速率与HF酸浓度之间的关系 说明： (HF)2是HF酸溶液中的最主要活性成分，因为以氢键形式存在的H－F键比HF分子中的H－F键更脆弱，与SiO2反应时更容易断裂。 第12页/共25页 第十二页，编辑于星期日：点 十五分。 14 减薄清洗单元（后） 第13页/共25页 第十三页，编辑于星期日：点 十五分。 清洗 外观检查 Polishing 外观检查 Reject Item 自动研磨 手动研磨 Picture 适应产品 无破损产品 所有产品 可修复不良 不良率高发，严重不良 不良率较低的轻微不良 CAPA Q-panel抛光，效率高 针对单点不良修复，效率低 研磨 15 第14页/共25页 第十四页，编辑于星期日：点 十五分。 16 减薄工艺自身不良 第15页/共25页 第十五页，编辑于星期日：点 十五分。 17 减薄工艺自身不良 玻璃本身含有杂质. 1. 除胶未干净，有残留 2. PT等未清洗干净 1. 设备故障（Conveyer） 2.瀑布流分叉（瀑布流蚀刻方式） 3.Nozzle堵塞（喷淋式蚀刻方式） 玻璃被蚀刻时局部蚀刻不一致 工艺设备 玻璃表面 玻璃本身 第16页/共25页 第十六页，编辑于星期日：点 十五分。 18 Slimming后划伤 第17页/共25页 第十七页，编辑于星期日：点 十五分。 19 Slimming后划伤 Lift Pin 凹点 第18页/共25页 第十八页，编辑于星期日：点 十五分。 20 Slimming后划伤 2.Robot吸盘凹点 第19页/共25页 第十九页，编辑于星期日：点 十五分。 21 Slimming后划伤 3.轮印 第20页/共25页 第二十页，编辑于星期日：点 十五分。 22 造成B-ITO不良 现象： ADS产品做完B-ITO后，产品与BOX接触的位置ITO被严重腐蚀 ，类似产品表面水干燥后残留的印记。 原因： BOX在Slimming车间长期周转，slimming车间内酸气长期在BOX表面附着，从而使BOX表面呈现酸性 1.水渍酸印 第21页/共25页 第二十一页，编辑于星期日：点 十五分。 23 其它不良 1.电阻超标 原因： 酸残留 第22页/共25页 第二十二页，编辑于星期日：点 十五分。 与减薄有关的性耐性 24 第23页/共25页 第二十三页，编辑于星期日：点 十五分。 End 25 谢谢！ 第24页/共25页 第二十四页，编辑于星期日：点 十五分。 感谢您的观看。 第25页/共25页 第二十五页，编辑于星期日：点 十五分。