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;开发目的 物理特性 化学原理 薄膜特性 -折射率 -吸收系数 -SiO2和SV-55透过率比较 信赖性测试结果 -热冲击测试 -高温放置测试 SV-55优点 混合物缺点 应用领域 采购信息 研究机构 ;一般使用的材料是按照各个用途各自使用，在光学产业中，低折射材料SiO2在进行AR/IR镀膜时被广泛使用并充分发挥其特性。 . 但是近年来对超薄化和高画质双重追求趋势的光学产业产品和IT产品结构给薄膜带来高应力和过多的压力，导致了复合增加薄膜破裂(Crack)和小丘等不良现象的趋势。 为此(株)度恩光学为了克服SiO2的局限性重新开发了SV-55产品。 .;基本信息 GENERAL INFORMATION 分子式 Si9Al2O10 外形 Light-colored particles 熔点 about 1700℃ 蒸发温度 about 2000℃ 透光范围 330-2,000nm 折射率 1.48 at 500nm;参考镀膜条件 RECOMMENDED COATING CONDITIONS 蒸发源 E-beam 坩埚 Copper / water cooled 氧气分压 2.0~.3.0*10-5 torr 沉积速度 0.2 - 0.8 nm/sec 基片温度 30 - 350 °C 密度 2.15 g/cm3 Z-ratio 1.0 ;以下数据为SV-55薄膜的折射,吸收,透过的图表和条件的共同点 ? ①共同点 基片 : 5Ⅹ5 玻璃片 基片的透射率 : 92% 镀膜厚度 : 150nm (单面镀膜) 真空度 : 3.0Ⅹ10-5torr 镀膜温度 : 70°C 氧气投入量 : 0 sccm 镀膜设备 : (株)韩一真空 ∮1200 (型号:HVC-1200DA HOMS) 测量范围 : 238~1033nm ②折射率, 吸收系数测量: 高精度全光谱椭圆偏振仪(Ellipsometer) ③透射率测量 : Hitachi U-4100 Spectrophotometer;SV-55和SiO2薄膜的各波长透过率比较图表;SV-55薄膜的各波长折射率;SV-55薄膜的各波长吸收系数;;;固溶体SV-55 优点 SV-55不是单纯混合的混合物，而是引导化学的合成制造的 化合物，为了持有稳定的特性设计，并且特别在真空镀膜过程中 由电子抢引起的飞溅,镀膜速度不稳定性能够得到改善。 ;;其他公司混合物产品 混合物[mixture, 混合物] 混合物是由两种或多种物质之间没有化学反应 合成的单纯组成的物质。 混合物的结构 ???? ?? A+B=A+B ∴ SiO2+Al2O3 = SiO2+Al2O3 此结构不能成为新的物质 ?? ??? ??? ? ? ??. 混合物沉积时缺点 SiO2+Al2O3是由于混合物结构的特性, 在镀膜过程中随电子束 照射各自产生熔融过程就会发生很多气泡, 因此发生镀膜速度不均 并大量发生针孔不良现象。;SV-55是从VIS到NIR，会在用玻璃和塑料制作的基片上能够镀膜，化学的稳定性非常突出, 对热冲击和应力导致的薄膜压力有明显提高，具很强的耐久性。;Packing : 500g/ 1bottle Minimum order quantity : 1kg ;(株)度恩 研发中心;Thank you;