PVD镀膜工艺简介.pptVIP

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PVD镀膜工艺简介;二、真空蒸发镀膜; 一、PVD的定义及分类 ;;2.PVD的基本过程;3.PVD的分类; 二、真空蒸发镀膜 ;1、我们的市场行为主要的导向因素,第一个是市场需求的导向,第二个是技术进步的导向,第三大导向是竞争对手的行为导向。 2、市场销售中最重要的字就是“问”。 3、现今,每个人都在谈论着创意,坦白讲,我害怕我们会假创意之名犯下一切过失。 4、在购买时,你可以用任何语言;但在销售时,你必须使用购买者的语言。 5、市场营销观念:目标市场,顾客需求,协调市场营销,通过满足消费者需求来创造利润。**** 6、我就像一个厨师,喜欢品尝食物。如果不好吃,我就不要它。***** 7、我总是站在顾客的角度看待即将推出的产品或服务,因为我就是顾客。*** 8、利人为利已的根基,市场营销上老是为自己着想,而不顾及到他人,他人也不会顾及你。**** ;1.真空的定义; ??热蒸发是在真空状况下,将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度,使原子蒸发,到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。 特点:装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体材料。;5.E-Beam蒸发原理; 二、真空溅射镀膜 ; 给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。; 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。;3.辉光放电的定义; 直流溅射:适用于金属材料 射频溅射:是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法;4.真空溅射镀膜的优缺点; 三、真空离子镀膜 ; 在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。 离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起;2.真空离子镀膜的原理;3.真空离子镀膜的特点; 真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀的比较;Thank you!

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