ar ch4流量比对a c h薄膜沉积速率及性能的影响.pdfVIP

V01．32 第32卷第8期 西安工业大学学报 No．8 of Xi’an 2012年08月 Jourml TechnologicalUniversity Aug．2012 文章编号： 1673—9965(2012)08—608—05 H Ar／C4流量比对a—C：H薄膜沉积速率 及性能的影响+ 弥谦，王超，惠迎雪，张艳茹，杭凌侠 (西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室，西安710032) 摘要： 为研究气体流量比对非平衡磁控溅射沉积含氢类金刚石薄膜(Diamond—Like 硅基底，采用傅里叶红外光谱、椭偏仪、表面轮廓仪对薄膜的沉积速率、光学特性及表面粗糙度 进行研究．实验