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泓域咨询/半导体清洗设备项目申请报告
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第一章 背景、必要性分析 8
一、 湿法清洗是主流清洗技术路线 8
二、 清洗设备市场空间大，单片设备将长期占据主体地位 11
三、 日系厂商领跑清洗设备，国内厂商替代进展顺利 11
四、 培育壮大产业集群 13
五、 项目实施的必要性 13
第二章 行业发展分析 15
一、 清洗步骤贯穿芯片生产各环节，是芯片良率重要保障 15
二、 芯片良率的重要保障，半导体清洗设备正当时 16
三、 大陆晶圆产能占比持续提高，有望带动国产设备需求成长 17
泓域咨询（MacroAreas）专注于项目规划、设计及可行性研究，可提供全行业项目建议书、可行性研究报告、初步设计、商业计划书、投资计划书、实施方案、景观设计、规划设计及高效的全流程解决方案。
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