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泓域咨询/半导体清洗设备项目资金申请报告
目录 TOC \o 1-3 \h \z \u
第一章 公司基本情况 9
一、 公司基本信息 9
二、 公司简介 9
三、 公司竞争优势 10
四、 公司主要财务数据 11
公司合并资产负债表主要数据 11
公司合并利润表主要数据 12
五、 核心人员介绍 12
六、 经营宗旨 14
七、 公司发展规划 14
第二章 项目背景及必要性 20
一、 单片清洗良率高,是目前主流清洗设备 20
二、 大陆晶圆产能占比持续提高,有望带动国产设备需求成长 20
三、 主动对接国家
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