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PLD
PLD 脉冲激光沉积系统 PED 脉冲电子束沉积系统
Neocera P180 脉冲激光沉积系统
• Neocera 在 PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列 PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业
化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的 PLD 系统，也提供完整的
PLD 实验室交钥匙方案
PLD
脉冲激光沉积系统（PLD）
一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组
成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态
范围很宽，达到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗
PLD “ ” Å/pulse
粒。另外， 是一种 数字 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（ ）。
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统 — 基于卓越经验的创新设计
Neocera 利用 PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于 Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压
力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD系统的激光束入射角为 45° ，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的
光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有 Pioneer 系统的标准配置都采
用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对
沉积条件进行最大的控制。
技术参数
Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120A
最大wafer直径 8” 6” 2”
6 1 3 2 6 1 3 2 6 1 3 2
最大靶材数量 个 ” 或 个 ” 个 ” 或 个 ” 个 ” 或 个 ”
-8 -9 -9
压力(Torr) * 5*10 5*10 5*10
真空室直径 24” 18” 12”
基片加热器 360° 旋转 360° 旋转 360° 旋转
最高样品温度 850 ℃ 850 ℃ 950 ℃
Turbo泵抽速* 7
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