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泓域咨询/宁夏半导体设备项目可行性研究报告
报告说明
光刻技术中许多先进制程涉及多重图形技术。即使是EUV,波长为13.5nm,要实现7nm的精度,仍需要依靠多重图形技术,即多次刻蚀。因此制程升级,精度越高,需要的刻蚀复杂度、步骤数量也在提升。所以刻蚀设备和化学薄膜设备成为更关键的设备。
根据谨慎财务估算,项目总投资15922.82万元,其中:建设投资12153.50万元,占项目总投资的76.33%;建设期利息345.43万元,占项目总投资的2.17%;流动资金3423.89万元,占项目总投资的21.50%。
项目正常运营每年营业收入35400.00万元,综合总成本费用27548.56万元,
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