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泓域咨询/汉中机械设备项目可行性研究报告
目录 TOC \o 1-3 \h \z \u
第一章 行业发展分析 8
一、 离子束刻蚀 8
二、 高密度等离子体刻蚀 8
第二章 项目建设背景及必要性分析 11
一、 干法刻蚀是芯片制造的主流技术 11
二、 等离子体刻蚀面临的问题 12
三、 原子层刻蚀为未来技术发展方向 13
四、 创新方式扩招商 16
第三章 项目概述 17
一、 项目名称及投资人 17
二、 编制原则 17
三、 编制依据 18
四、 编制范围及内容 18
五、 项目建设背景 19
六
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