广西刻蚀设备项目可行性研究报告（范文）.docx

泓域咨询/广西刻蚀设备项目可行性研究报告  广西刻蚀设备项目 可行性研究报告 xx投资管理公司  报告说明 在先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理的高密度等离子体刻蚀技术。根据产生等离子体方法的不同，等离子体刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀（CCP）、电感性等离子体刻蚀(ICP)、电子回旋加速震荡（ECR）和双等离子体源。 根据谨慎财务估算，项目总投资34340.99万元，其中：建设投资26385.51万元，占项目总投资的76.83%；建设期利息663.29万元，占项目总投资的1.93%；流动资金7292.19万元，占项目总投资的21.23%。 项目正常运营每