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泓域咨询/嘉兴机械设备项目可行性研究报告
报告说明
在先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理的高密度等离子体刻蚀技术。根据产生等离子体方法的不同,等离子体刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀(CCP)、电感性等离子体刻蚀(ICP)、电子回旋加速震荡(ECR)和双等离子体源。
根据谨慎财务估算,项目总投资7304.12万元,其中:建设投资5921.45万元,占项目总投资的81.07%;建设期利息167.84万元,占项目总投资的2.30%;流动资金1214.83万元,占项目总投资的16.63%。
项目正常运营每年营业收入12700.00万元,综合总成本费用10594.75万元
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