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泓域咨询/临汾机械设备项目可行性研究报告
报告说明
目前先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理的高密度等离子体刻蚀技术。一个等离子体刻蚀机的基本部件包括发生刻蚀反应的反应腔、产生等离子体气的射频电源、气体流量控制系统、去除生成物的真空系统。刻蚀中会用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅，氯和氟刻蚀铝，氯、氟和溴刻蚀硅，氧去除光刻胶。
根据谨慎财务估算，项目总投资30685.69万元，其中：建设投资24839.64万元，占项目总投资的80.95%；建设期利息263.46万元，占项目总投资的0.86%；流动资金5582.59万元，占项目总投资的18.19%。
项目正常
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