泓域咨询/佛山刻蚀设备项目可行性研究报告
佛山刻蚀设备项目
可行性研究报告
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目录 TOC \o 1-3 \h \z \u
第一章 项目背景分析 8
一、 离子束刻蚀 8
二、 原子层刻蚀为未来技术发展方向 8
三、 坚持创新驱动发展增强发展新动能 11
四、 构建开放型经济新体制实行高水平对外开放 14
第二章 行业发展分析 18
一、 干法刻蚀是芯片制造的主流技术 18
二、 反应离子刻蚀 19
三、 等离子体刻蚀面临的问题 19
第三章 项目概况 21
一、 项目名称及建设性质 21
二、
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