萍乡刻蚀设备项目可行性研究报告（模板）.docx

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2022-08-04 发布于重庆
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萍乡刻蚀设备项目可行性研究报告（模板）.docx

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泓域咨询/萍乡刻蚀设备项目可行性研究报告报告说明以硅片上的原子层刻蚀为例，首先，氯气被导入刻蚀腔，氯气分子吸附于硅材料的表面，形成一个氯化层。这一步改性步骤具有自限制性：表面一旦饱和，反应立即停止。紧接着清楚刻蚀腔中过量的氯气，并引入氩离子。使这些离子轰击硅片，物理性去除硅-氯反应后产生的氯化层，进而留下下层未经改性的硅表面。这种去除过程仍然依靠自限制性，在氯化层被全部去除后，过程中止。以上两个步骤完成后，一层极薄的材料就能被精准的从硅片上去除。半导体设备市场快速发展，刻蚀设备价值量可观根据谨慎财务估算，项目总投资33853.44万元，其中：建设投资26263.26万元，占项目总投资的7