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第一章习题
设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 E (k)和价带极大值附近
c
能量 E (k)分别为:
V
h 2k 2
E (K)= ?
C 3m
0
h 2(k ? k )2
1
m
0
,E (k) ?
V
h 2k 2
1
6m
0
? 3h 2k 2
m
0
(1)禁带宽度;
导带底电子有效质量;
价带顶电子有效质量;
价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)
晶格常数为 0.25nm 的一维晶格,当外加 102V/m,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据: f ? qE ? h ?k 得?t ?
?t
??k
qE
补充题 1
分别计算 Si(100),(110),(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度
(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)
Si 在(100),(110)和(111)面上的原子分布如图 1 所示:
(a)(100)晶面 (b)(110)晶面
(c)(111)晶面
补充题 2
一维晶体的电子能带可写为 E(k ) ?
式中 a 为 晶格常数,试求
布里渊区边界;
能带宽度;
? 2
ma 2
( 7 ? cos ka ? 1 cos 2ka) ,
8 8
电子在波矢 k 状态时的速度;
能带底部电子的有效质量m * ;
n
能带顶部空穴的有效质量m *
p
dE(k )
解:(1)由
? 0 得 k ? n?
dk a
(n=0,?1,?2…)
k ? 2n
进一步分析k ? (2n ? 1) ?
a
?
时,E(k)有极小值
a
?
,E(k)有极大值,
所以布里渊区边界为k ? (2n ? 1)
a
(2)能带宽度为 E(k )
MAX
E(k )
MIN
? 2? 2
ma 2
(3)电子在波矢k 状态的速度v ?
1 dE ? ?
(sin ka ? 1 sin 2ka)
电子的有效质量
?2n?
?
能带底部 k
a
所以m*
n
? dk ma 4
? 2m
(5)能带顶部 k ?
(2n ? 1)?
,
a
且 m*
p
? ?m* ,
n
2m
所以能带顶部空穴的有效质量m* ?
p 3
半导体物理第 2 章习题
实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷等。
以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。
As 有 5 个价电子,其中的四个价电子与周围的四个Ge 原子形成共价键,还剩余一个电子,同时 As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以, 一个 As 原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子.
多余的电子束缚在正电中心,但这种束缚很弱,很小的能量就可使电子摆脱束缚, 成为在晶格中导电的自由电子,而 As 原子形成一个不能移动的正电中心。这个过程叫做施主杂质的电离过程。能够施放电子而在导带中产生电子并形成正电中心,称为施主杂质或 N 型杂质,掺有施主杂质的半导体叫 N 型半导体。
以 Ga 掺入 Ge 中为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和 p 型半导体。
Ga 有 3 个价电子,它与周围的四个Ge 原子形成共价键,还缺少一个电子,于是在 Ge 晶体的共价键中产生了一个空穴,而 Ga 原子接受一个电子后所在处形成一个负离子中心,所以,一个 Ga 原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个负电中心和一个空穴,空穴束缚在 Ga 原子附近,但这种束缚很弱,很小的能量就可使空穴摆脱束缚,成为在晶格中自由运动的导电空穴,而 Ga 原子形成一个不能移动的负电中心。这个过程叫做受主杂质的电离过程,能够接受电子而在价带中产生空穴,并形成负电中心的杂质,称为受主杂质,掺有受主型杂质的半导体叫P 型半导体。
以 Si 在 GaAs 中的行为为例,说明 IV 族杂质在 III-V 族化合物中可能出现的双性行为。
Si 取代 GaAs 中的 Ga 原子则起施主作用; Si 取代 GaAs 中的 As 原子则起受主作用。导带中电子浓度随硅杂质浓度的增加而增加,当硅杂质浓度增加到一定程度时趋于饱和。硅先取代 Ga 原子起施主作用,随着硅浓度的增加,硅取代 As 原子起受主作用。
举例说明杂质补偿作用。
当半导体中同时存在施主和受主杂质时, 若(1) N N
D A
因为受主能级低于施主能级,所以施主杂质的电子首先跃迁到 N
A
个受主能级
上
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