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第一章 半导体中的电子状态
§1.1 锗和硅的晶体结构特征金刚石结构的基本特征
§1.2 半导体中的电子状态和能带电子共有化运动概念
绝缘体、半导体和导体的能带特征。几种常用半导体的禁带宽度; 本征激发的概念
§1.3 半导体中电子的运动 有效质量
导带底和价带顶附近的E(k)~k 关系 E ?k ?-E ?0?= h2 k 2 ;
2m*
n
半导体中电子的平均速度v ? dE ;
hdk
1有效质量的公式: ?
1
d 2 E
。
m* h2
n
dk 2
§1.4 本征半导体的导电机构 空穴
空穴的特征:带正电; m?
p
? ?m? ; E
n n
? ?E ; k
p p
? ?k
n
§1.5 回旋共振
§1.6 硅和锗的能带结构导带底的位置、个数; 重空穴带、轻空穴
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
§2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
基本概念:施主杂质,受主杂质,杂质的电离能,杂质的补偿作用。
§2.2 Ⅲ—Ⅴ族化合物中的杂质能级杂质的双性行为
第三章 半导体中载流子的统计分布
热平衡载流子概念
§3.1 状态密度
定义式: g(E) ? dz / dE ;
导带底附近的状态密度: g
(E) ? 4? V
2m*
?n
?
?3 / 2
?E ? E
?1/ 2 ;
c h3
?
c
?3 / 2
价带顶附近的状态密度: g (E) ? 4? V
v
§3.2 费米能级和载流子的浓度统计分布
2m*
p
h3
?E ? E ?1/ 2
V
Fermi 分布函数: f (E) ?
1 ? exp ??
1
?E ? E
F
?/ k T ?
?;0
?
;
Fermi 能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有
关。1)将半导体中大量的电子看成一个热力学系统,费米能级 E 是系统的化学势;2)E
F F
可看成量子态是否被电子占据的一个界限。3) E 的位置比较直观地标志了电子占据量子
F
态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。费米能级位置较高,说明有较多的能量较高的量子态上有电子。
0E ? EF
0
;Boltzmann 分布函数: f
;
B
(E) ? e k T
导带底、价带顶载流子浓度表达式:
? ?3
E ? E
2? m* k T 2
n ? N
0 c
exp F c ,
k T
0
N ? 2
c
n
h3
? ?3
导带底有效状态密度
E ? E
2? m? k T 2
p ? N
0 v
exp v F
k T
0
, N ? 2
v
p 0 价带顶有效状态密度
h3
? E ? E ? ? E ?
?载流子浓度的乘积n p
?
? N N
exp? ? C V ? ? N N exp? ?
g ? 的适用范围。
???0 0 C V
?
?
?
k T C V k T
0 0
§3.3. 本征半导体的载流子浓度
本征半导体概念;
本征载流子浓度: n ? n ? p ? (N N )
i 0 0 C V
? E ?
1??2 exp? ? 2 g ? ;
1
?
?
k T
0
载流子浓度的乘积n p ? n 2 ;它的适用范围。 0 0 i
§3.4 杂质半导体的载流子浓度
1
电子占据施主杂质能及的几率是 f
D
(E) ?
1 ? E ? E ?
2??1 ? exp D F
2
?
?
??k T
?
?
0
空穴占据受主能级的几率是 f
(E) ?
A
1
1 ? E ? E ?
??1 ? 2 exp???F A ?
?
?
施主能级上的电子浓度n
为: n
? N f
k T
0
?? ND
?
?D D D D
?
1 ? E
E ?
受主能级上的空穴浓度 p 为 p
? N f
??(E) ?
?
?
1 ? exp D F
2??k T
2
?
?
0
N
A
A A A A
1? 1 exp? E ? E ?
2 ? F A ?
电离施主浓度n
D
为: n ?
D
k T
0
? N ? n
D D
电离受主浓度 p
为: p ?
A A
? N ? p
A A
费米能级随温度及杂质浓度的变化
§3.5 一般情况下的载流子统计分布
§3.6. 简并半导体
1、重掺杂及简并半导体概念;
2、简并化条件(n 型): E ? E
C F
? 0 ,具体地说:1)N
D
接近或大于N
C
时简并;2)ΔE 小,
D
则杂质浓度N 较小时就发生简并;3)杂质浓度越大,发生简并的温度范围越宽;4)简并
D
时杂质没有充分电离;5)简并半导体的杂质能级展宽为能带,带隙宽度会减小。
3
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