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第五章 薄膜制备技术(2) 气相沉积技术就是通过气相材料或使材料气化后，沉积于固体材料或制品（基片）表面并形成薄膜，从而使基片获得特殊表面性能的一种新技术。 薄膜的制备方法 薄膜的制备方法可分为：液相法和气相法 气相沉积技术分为：物理气相沉积和化学气相沉积。 物理气相沉积：（PVD) (1)真空蒸镀 (2)溅射镀膜 (3)离子镀膜 化学气相沉积：(CVD) (1)常压、低压CVD (2)等离子辅助CVD (3)激光（电子束）辅助CVD (4)有机金属化合物CVD 蒸发镀膜 概念：把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜的工艺过程，称为真空蒸发镀膜，简称蒸发镀膜或蒸镀。 物理气相沉积（ PVD） 1、蒸发镀膜的装置与过程 基本设备：主要是附有真空抽气系统的真空室和蒸发镀膜材料加热系统，安装基片或工件的基片架和一些辅助装置组成。 基本过程：用真空抽气系统对密闭的钟罩进行抽气，当真空罩内的气体压强足够低时，通过蒸发源对蒸发料进行加热到一定温度，使蒸发料气化后沉积于基片表面，形成薄膜。 2、