- 1、本文档共27页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
太阳电池背表面钝化;为什么背表面钝化越来越重要;各种钝化技术的结果;;;Al2O3薄膜的退火特性 改变长钝化特性;退火改变化学钝化特性;表面电荷的作用区域;各种条件制备的Al2O3膜的电荷特性;Al2O3表面负电荷的来源;不同衬底上的Al2O3膜的少子寿命随注入水平的变化;轻掺杂n-Si表面镀膜;重掺杂p-Si表面镀膜;P-Si的钝化;原子层沉积设备;ALD的工艺流程;实验室设备ALD工艺流程;1. ALD技术简介;Al2O3背表面钝化面临的挑战;
P-Si;;;在P型硅上的寄生漏电的计算;;
P-Si;结论;谢 谢
企业信息管理师持证人
新能源集控中心项目 智慧电厂建设项目 智慧光伏 智慧水电 智慧燃机 智慧工地 智慧城市 数据中心 电力行业信息化
文档评论(0)