上海半导体技术服务项目可行性研究报告_范文模板.docx

泓域咨询/上海半导体技术服务项目可行性研究报告 报告说明 掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游产品制造过程中图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。光掩模是用于集成电路制造工序的重要器件，通过制作光掩膜底板、绘图、显影、蚀刻以及去除光致抗蚀剂等步骤，便成功制成掩膜版。 根据谨慎财务估算，项目总投资7488.56万元，其中：建设投资5790.07万元，占项目总投资的77.32%；建设期利息117.85万元，占项目总投资的1.57%；流动资金1580.64万元，占项目总投资的21.11%。 项目正常运营每年营业收入153