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碱抛外观不良解决方案 1. 碱抛脏污类型 脏污大致分为以下4种类型，每种脏污都有相对应的解决措施及预防措施； ① 湿法有机物污染类：“八”字脏污 （新备件导入管控）② 碱抛倒灌导致： “条”形脏污 （软件、硬件上解决倒灌、操作上培训预防倒灌）③ 碱抛烘干 效果差、颗粒物污染水印团状脏污 （设备彻底解决、每班烘干风管检查） ④ PE背膜不均匀团状脏污 （检查膜色并排查解决、设备调整点位） 2. 表面药液残留 异常原因： 慢提拉清洗脱水时，由于采用热水清洗导致工装夹具表面的药液残留析出， 提篮过程中硅片表面会吸附上残留液； 处理方法： 将慢提拉的热水溢流改为冷水溢流； 3. 花篮底杆位置带液 异常原因： 碱抛花篮底杆位置带液，冷水慢提烘干效果略差且花篮底杆在烘干槽时由于 位置偏低，无法吹干，导致出料时带液，极易接触到硅片，导致退火烧焦异常； 处理方法： 下料台位置平铺吸水海绵，花篮出料时接触到吸水海绵，水滴会被吸收，避 免带液导致不良； 4. 碱抛SE 的MARK点漏电 异常原因： MARK和SE区域由于受激光轰击，PSG层较薄，经过碱抛光时会因为正面保 护不足，破坏该区域PN结，从而导致漏电； 处理方法： SE后增加一个退火流程，目的为增加正面氧化层厚度，提高碱抛时SE和MARK 区域的保护作用； 5. 花篮侧杆位置带液 异常原因： 由于碱抛槽和预处理槽共用一个水洗2#槽，导致该水槽的药液残留浓度较 高，若纯水溢流不充分，极易导致提篮时液面有机残留药液吸附在硅片表面； 处理方法： 加大2#水洗槽的溢流量，去除液面上的有机残留液，并定期清洗溢流口； 6. 待机导致正面抛光 异常原因： 过程机台异常，导致碱抛机台停机，而碱抛采用的加热反应，长时间停机会 导致药液挥发，再生产时会产生正面抛光片。 处理方法： 将软件升级，机台设定待机时间超时报警项，当停机时需人工干预，调整配 方后方可开机； 7. 背面局部外观异常 异常原因： 预清洗循环管碎片、残渣以及结晶等堵塞，槽体靠外侧循环较差，导致抛光 槽新液未完全激活时，槽体外侧花篮出现局部背面未抛光，药液完全激活后正常， 观察3D塔基未抛光。 处理方法： 保养定期清理循环管，防止有堵孔现象； 8. 碱抛后外观水印 异常原因： 碱抛酸洗后未经过慢提拉，硅片表面脱水效果较差，残留水渍烘干后留下水 印。右图为镀膜后外观水印； 处理方法： 酸洗后先水洗再慢提拉脱水，确保无水渍残留。 9. EL气流印 异常原因： 通过各种排查锁定为慢提拉槽 （底座）污染异常，常规方式双氧水盐酸泡槽 无改善。 处理方法： 慢提拉槽底座下沉，使用洗洁精泡槽4-6小时，再使用双氧水泡槽4-6小时 及高压水枪冲洗去除洗洁精残留，如此重复进行两次以上，可解决气流印异常。 碱液能将油脂水解，产生相应的脂肪酸的钠盐，也就是肥皂。 10. 碱抛后背面白点严重 碱抛开线后，由于链式氧化炉和去PSG跑片数量过少，导致碱抛后背面白点 过多。经过添加辅助剂后背面白点问题得以解决 异常原因： 通过各种排查锁定为慢提拉槽 （底座）污染异常，常规方式双氧水盐酸泡槽 无改善。 处理方法： 慢提拉槽底座下沉，使用洗洁精泡槽4-6小时，再使用双氧水泡槽4-6小时 及高压水枪冲洗去除洗洁精残留，如此重复进行两次以上，可解决气流印异常。 11. 槽体碎片数量多，需要及时清理 巡检过程中，如果发现有的槽碎片过多，导致槽体内循环状态差异比较大， 需要及时清理碎片，有产品不良的风险。 注意事项：湿法设备需重点关注槽内洁净度情况，包括烘干槽卫生，上下料 卫生，防止污染物被携入造成污染。 12. 去PSG滚轮传动异常 异常原因： 去PSG机台主传动轴丝牙浅，沾液过多导致硅片正面过刻，水洗槽之前水膜 破水； 处理方法： ① 更换深丝牙传动轴； ② 刻蚀槽之后水洗槽之前更换传动轴。 13. 定排异常 异常原因： 抛光槽排液阀门堵死，导致抛光