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泓域咨询/关于成立刻蚀技术公司可行性报告
报告说明
射频系统通常由射频电源（RFGenerator）和匹配器（RFMatch）两部分组成，是刻蚀设备的核心系统之一，目前该领域市场主要被美国优仪半导体（AE），万机仪器（MKS），及康姆艾德等公司占据。射频电源是可以产生固定频率的正弦波电压，且具有较大功率的电源。刻蚀气体（主要是CF4）通过气路系统通入反应腔室后，被射频电源产生的高频率电场（通常为13．56MHz）电离从而产生辉光放电，完成从气体分子到离子的转变，形成等离子体（Plasma），提高气体反应活性。射频电源直接关系到反应腔体中的等离子浓度，均匀度以及稳定度。在大部分刻蚀设备中，射频电
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