泓域咨询/山西半导体设计项目可行性研究报告
报告说明
按制造工艺的先后顺序可以将检测设备分为前道过程控制设备和后道测试设备,前道过程控制贯穿晶圆加工制造全流程,下游主要是晶圆代工厂和IDM,后道测试主要是对硅片成品进行检测,下游主要是封测厂、代工厂和IDM等。主要检测设备包括图形检查设备、掩膜检查设备、薄膜测量设备、测试机、分选机和探针台等。
根据谨慎财务估算,项目总投资647.94万元,其中:建设投资422.19万元,占项目总投资的65.16%;建设期利息8.51万元,占项目总投资的1.31%;流动资金217.24万元,占项目总投资的33.53%。
项目正常运营每年营业收入2200.00万元
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