原创力文档- 3
- 0
- 约7.82千字
- 约 8页
- 2023-01-21 发布于北京
- 举报
本实用新型提供一种真空镀多层膜结构，包括介质膜堆叠段和混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段包括相互堆叠的多层介质膜，所述混合膜堆叠段包括多层介质膜和多层金属膜，每层所述介质膜和每层所述金属膜依次相互交替堆叠形成所述混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段的介质膜与所述混合膜堆叠段的金属膜接触。通过本实用新型，提供一种简化真空镀工艺难度、提供颜色膜颜色效果和结合力的真空镀多层膜结构及电子设备后盖。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212293727 U
(45)授权公告日 2021.01.05
(21)申请号 202020359100.4
(22)申请日 2020.03.20
(73)专利权人 布
文档评论（0）