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本实用新型提供了一种半导体结构,包括支撑结构,以及依次形成于支撑结构上的第一介质层和生长衬底,支撑结构与生长衬底的重心错位设置,避免了生长衬底与石墨盘的直接接触,将石墨盘对生长衬底施加的离心力转移到支撑结构上,进一步确保生长衬底的质量,极大程度上降低裂片的概率,以确保后续外延层的晶体质量,且支撑结构形成于生长衬底的底部,有效提高了该半导体结构的机械强度,增强稳定性,抑制半导体结构发生形变。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218351409 U
(45)授权公告日 2023.01.20
(21)申请号 202221664248.4
(22)申请日 2022.06.30
(73)专利权人 苏州晶湛半导体有限公司
地址 2
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