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本申请涉及一种光刻机。该光刻机包括光图形生成设备、空间光相位调制设备和投影设备；光图形生成设备用于投射光图形；空间光相位调制设备，用于接收光图形，并对光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，光图形在空间光相位调制设备上呈实像；投影设备，用于接收调制后的光图形并投射到目标位置；其中，调制后的光图形在目标位置发生干涉效应。通过光图形生成设备投射光图形，并在空间光相位调制设备形成实像。空间光相位调制设备对光图形的部分区域的相位进行调制，以实现通过投影设备投射到目标位置时光图形的不同区域互相发生干涉效
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218350711 U
(45)授权公告日 2023.01.20
(21)申请号 202221492101.1
(22)申请日 2022.06.15
(73)专利权人 松山湖材料实验室
地址 5230
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
用户编号：8063122115000010
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