一种带遮光结构的均匀发光装置.pdfVIP

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  • 2023-01-30 发布于四川
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本实用新型公开了一种带遮光结构的均匀发光装置,具有壳体和饰圈,所述壳体的内壁上具有反射面,饰圈的竖直方向上设有多个出光窗口,壳体与饰圈装配围成的空间内装有反射镜和发光模组,所述发光模组上具有发光源,所述反射镜上集成有具有遮光效果的遮光结构,所述发光源直射到出光窗口的光线通过遮光结构反射到反射面上、再经反射面将光线反射回出光窗口。该均匀发光装置不仅可以避免在出光窗口处形成亮斑,还改善了在竖直方向上多个出光窗口的出光均匀性,有效提高了光能利用率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212298837 U (45)授权公告日 2021.01.05 (21)申请号 202022245826.8 F21S 43/33 (2018.01)

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