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一种大直径硅片盒清洗设备.pdfVIP

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  • 2023-02-01 发布于四川
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一种大直径硅片盒清洗设备.pdf

    本实用新型公开了一种大直径硅片盒清洗设备，包括输送座，所述输送座的顶部设置有密封罩，所述密封罩内部的一侧设置有纯水预清洗区，所述纯水预清洗区的一侧设置有超声清洗区，所述超声清洗区的内部设置有超声波发生器，所述超声清洗区的一侧设置有最终清洗区，所述纯水预清洗区和最终清洗区的内侧皆设置有喷淋管。该一种大直径硅片盒清洗设备，在进行日常使用的过程中，可以通过增加多步纯水清洗和超声清洗过程，对颗粒杂质和金属离子进行去除，经过三步热干燥和二步热真空，大大提高了片盒洁净度，同时避免人员烫伤和片盒的二次污染，同

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218361031 U (45)授权公告日 2023.01.24 (21)申请号 202221048254.7 (22)申请日 2022.05.05 (73)专利权人 中环领先半导体材

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