用于晶圆清洗的片架.pdfVIP

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  • 2023-02-02 发布于四川
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本实用新型提供了一种用于晶圆清洗的片架,该用于晶圆清洗的片架包括片架本体、置放槽和至少一个漏水结构,其中:所述片架本体包括相对设置的两个侧面,且所述相对设置的两个侧面内侧对称设置有至少一对置放槽;所述漏水结构设置在所述相对设置的两个侧面上,且位于所述侧面的下部;所述漏水结构与所述置放槽连通。该片架漏水结构的设置,以及其与置放槽的呼应设计,极利于清洗中出料时上拉脱水及甩干脱水,提高了甩干效率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212342584 U (45)授权公告日 2021.01.12 (21)申请号 202020773634.1 (22)申请日 2020.05.11 (73)专利权人 金华博蓝特电子材料有限公司

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