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- 2023-02-03 发布于四川
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本实用新型属于蚀刻技术领域,提出了一种湿法蚀刻装置,包括壳体、蚀刻部件、位移部件、基板安装架,所述位移部件、基板安装架自上而下依次安装在壳体内部,且与壳体内壁连接;所述蚀刻部件与位移部件连接,所述基板安装架安装有基板,所述基板位于蚀刻部件下方,所述蚀刻部件在位移部件的驱动下横向往复移动,蚀刻基板;所述基板的一端向壳体底部倾斜。本实用新型基板的一端向壳体底部倾斜,有利于多余的蚀刻液及时从基板表面流出,防止蚀刻液集聚在基板表面过量蚀刻,造成蚀刻不均匀,影响基板品质。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218416826 U
(45)授权公告日 2023.01.31
(21)申请号 202222711510.2
(22)申请日 2022.10.14
(73)专利权人 易安爱富(武汉)科技有限公司
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