一种承载盘及电子束蒸发设备.pdfVIP

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2023-02-04 发布于四川
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一种承载盘及电子束蒸发设备.pdf

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本申请公开了一种承载盘，用于承载衬底，所述衬底上具有掩模层，所述掩模层具有用于在所述衬底上制备量子元件的第一目标图形和第二目标图形，所述承载盘包括承载盘本体；用于暴露所述第一目标图形的镂空区；以及，用于遮挡所述第二目标图形的遮挡部。本申请中，通过设置承载盘本体，用于承载衬底，通过在承载盘本体上设置镂空区，利用镂空区暴露出掩模层上的第一目标图形，从而便于在衬底上蒸镀制备第一批量子元件，同时，本申请还设置有遮挡部，在制备第一批量子元件时，利用遮挡部遮挡第二目标图形，从而实现制备第一批量子元件时，保护

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218404385 U (45)授权公告日 2023.01.31 (21)申请号 202222599962.6 (22)申请日 2022.09.29 (73)专利权人合肥本源量子计算科技有限责任