一种MASK网版双面清洗结构.pdfVIP

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  • 2023-02-05 发布于四川
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本实用新型公开了一种MASK网版双面清洗结构,包括清洗机架,所述清洗机架的内部设置有双面升降清洗部件,所述双面升降清洗部件的上方设置有沥水部件,所述双面升降清洗部件的下方设置有斜面板,所述斜面板为上端面向后下方倾斜设置,本实用新型为一种MASK网版双面清洗结构,通过设置斜面板、双面升降清洗部件和风切机构等,达到了提高清洗效率和清洗效果,解决了目前的清洗结构清洗效果较差,清洗后沥干时间长,效率较低的问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212349663 U (45)授权公告日 2021.01.15 (21)申请号 202020867842.8 (22)申请日 2020.05.21 (73)专利权人 苏州殷绿勒精密机械科技有限公

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