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一种节省真空镀膜室内空间的蒸发源配置结构.pdfVIP

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  • 2023-02-09 发布于北京
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一种节省真空镀膜室内空间的蒸发源配置结构.pdf

    本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种节省真空镀膜室内空间的蒸发源配置结构，其特征在于：在所述真空镀膜室内设置有两个或两个以上的蒸发源，且所述蒸发源之间沿所述真空镀膜室的高度方向上下错层布置。本实用新型的优点是：可以在真空镀膜腔室的内部空间容积一定的情况下放置更多或更大的蒸发源；即，在一定大小的真空腔室内合理利用空间以实现配置更多或更大规格的蒸发源坩埚台的目的；经济性好，可有效利用既有的真空镀膜设备，无需额外配置；能够保证成膜效果。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212404260 U (45)授权公告日 2021.01.26 (21)申请号 202021589372.X (22)申请日 2020.08.04 (73)专利权人 光驰科技（上海）有限公司

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