氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法.pdfVIP

氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法.pdf

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本申请公开了一种氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法,该防硫酸铵系统包括:薄膜,设置于掩模版的掩模底面上,与所述掩模底面围成一密闭空间,所述密闭空间包围所述掩模版的胶片;氢离子捕捉器,通过两条管道分别与所述密闭空间的两侧相连通;该氢离子捕捉器包括:壳体、设置在所述壳体内的电解质容器、水合凝胶层、电极、供电模块和水收集器。本申请的防硫酸铵系统,能够通过氢离子捕捉器去除空气中的氢离子,向薄膜与掩模版所围成的密闭空间内输入过滤掉氢离子的空气,通过空气将胶片在曝光时产生的氨排出,从而防止有

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111929990 A (43)申请公布日 2020.11.13 (21)申请号 202010761593.9 (22)申请日 2020.07.31 (71)申请人 中国科学院微电子研究所

文档评论(0)

知识产权出版社 + 关注
官方认证
服务提供商

知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

版权声明书
用户编号:8063122115000010
认证主体北京中献电子技术开发有限公司
IP属地四川
统一社会信用代码/组织机构代码
91110108102011667U

1亿VIP精品文档

相关文档