TePb0.985Mn0.015Te异质结生长行为研究.docxVIP

下载本文档

2
0
约2.02万字
约 24页
2023-02-13 发布于湖南
举报
版权申诉

TePb0.985Mn0.015Te异质结生长行为研究.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

PAGE 2 Te/Pb0.985Mn0.015Te异质结生长行为研究摘要研究金属与PbMnTe薄膜界面的形成机理及结构特性对PbMnTe功能器件的应用具有重要的意义。本文利用分子束外延在BaF2(111)基底上制备了高质量Pb0.985Mn0.015Te单晶薄膜，在此基础上，系统研究了Te在Pb0.985Mn0.015Te单晶薄膜表面的生长行为。结果表明当在Pb0.985Mn0.015Te薄膜表面沉积一层Te时，Te将会跟最表面的Pb结合形成原子层平整度表面；当沉积的Te薄膜厚度大于1ML时，Te在Pb0.985Mn0.015Te薄膜螺旋台阶边缘成核形成Te团簇，随着沉积厚度的